DI-UMONS : Dépôt institutionnel de l’université de Mons

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(titres de publication, de périodique et noms de colloque inclus)
2009-01-01 - Article/Dans un journal avec peer-review - Anglais - 7 page(s)

Snyders Rony , Jiang K., Music D., Konstantinidis Stéphanos , Markus T., Reinholdt A., Mayer J., Schneider J-M., "Composition-constitution-morphology relationship of Al2O3 thin films deposited by plasma assisted chemical vapor deposition" in Surface & Coatings Technology, 204, 1-2, 215-221

  • Edition : Elsevier Science, Lausanne (Switzerland)
  • Codes CREF : Chimie des solides (DI1316), Physique des plasmas (DI1233)
  • Unités de recherche UMONS : Chimie des interactions plasma-surface (S882)
  • Instituts UMONS : Institut de Recherche en Science et Ingénierie des Matériaux (Matériaux)
Texte intégral :

Abstract(s) :

(Anglais) We have studied the correlation between the chemical composition, constitution and morphology of Al2O3 using experimental and theoretical means. Combining scanning electron microscopy, transmission electron microscopy, electron dispersive X-ray analysis a

Notes :
  • (Anglais) Publié en ligne le 22 juillet 2009
  • (Anglais) Lecture en ligne: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=MImg&_imagekey=B6TVV-4WTRS64-2-S&_cdi=5544&_user=532054&_pii=S0257897209005866&_origin=search&_coverDate=09%2F25%2F2009&_sk=997959998&view=c&wchp=dGLzVlz-zSkWA&md5=ec5b01f8c792a993e6fb45eb41ba2404