DI-UMONS : Dépôt institutionnel de l’université de Mons

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(titres de publication, de périodique et noms de colloque inclus)
2013-10-10 - Article/Dans un journal avec peer-review - Français - 17 page(s)

Michiels M, Konstantinidis Stéphanos , Snyders Rony , "La pulvérisation cathodique magnétron en régime d'impulsions de haute puissance (HiPIMS)" in Techniques de l'ingénieur ; matériaux, IN207

  • Codes CREF : Chimie des surfaces et des interfaces (DI1327)
  • Unités de recherche UMONS : Chimie des interactions plasma-surface (S882)
  • Instituts UMONS : Institut de Recherche en Science et Ingénierie des Matériaux (Matériaux)
  • Centres UMONS : Centre d’Innovation et de Recherche en Matériaux Polymères (CIRMAP)

Abstract(s) :

(Français) La technologie HiPIMS, high power impulse magnetron sputtering, repré- sente une avancée majeure en matière de dépôts physiques de films minces fonctionnels en phase vapeur (physical vapor deposition). Dans un premier temps, nous ferons un bref rappel de la pulvérisation cathodique magné- tron conventionnelle. En second lieu, la technologie HiPIMS sera présentée schématiquement en abordant notamment les difficultés de génération et de mesure des impulsions. Nous présenterons également des méthodes de simulation et de conception de champs magnétiques appli- quées aux dispositifs de pulvérisation magnétron. Finalement, deux cas particuliers d’application de cette technologie seront abordés : la croissance de films de dioxyde de titane et de trioxyde de tungstène.