2010-06-15 - Colloque/Présentation - poster - Anglais -
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Hemberg A.,
Konstantinidis Stéphanos 
,
Bittencourt Carla ,
Renaux F.,
Dauchot Jean-Pierre ,
Snyders Rony ,
"High-Power impulse magnetron sputtering of WO3 : Study of the influence of the pulse parameters on the deposition rate" in MIATEC 2010, Metz, France, 2010
- Codes CREF : Chimie des surfaces et des interfaces (DI1327), Chimie des solides (DI1316), Physique des plasmas (DI1233)
- Unités de recherche UMONS : Chimie des interactions plasma-surface (S882)
- Instituts UMONS : Institut de Recherche en Science et Ingénierie des Matériaux (Matériaux)