DI-UMONS : Dépôt institutionnel de l’université de Mons

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2016-05-11 - Article/Dans un journal avec peer-review - Anglais - 4 page(s)

Yu Mufei, Xu Hong, Kosma Vasiliki, Odent Jérémy , Kasahara Kazuki, Giannelis E.P., Ober Christopher K., "Positive tone nanoparticle photoresists: New insight on the patterning mechanism" in Journal of Photopolymer Science and Technology, 29, 509-512

  • Edition : Technical Association of Photopolymers (Japan)
  • Codes CREF : Chimie inorganique (DI1312)
Texte intégral :