2010-08-18 - Article/Dans un journal avec peer-review - Anglais -
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Jiang K.,
Sarakinos K.,
Konstantinidis Stéphanos 
,
Schneider J-M.,
"Low temperature synthesis of a-Al2O3 films by high-power plasma-assisted chemical vapour deposition" in Journal of Physics: D Applied Physics, 43, 32, 325202
- Edition : Institute of Physics Publishing, Bristol (United Kingdom)
- Codes CREF : Chimie des surfaces et des interfaces (DI1327), Chimie des solides (DI1316), Physique des plasmas (DI1233)
- Unités de recherche UMONS : Chimie des interactions plasma-surface (S882)
- Instituts UMONS : Institut de Recherche en Science et Ingénierie des Matériaux (Matériaux)