DI-UMONS : Dépôt institutionnel de l’université de Mons

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(titres de publication, de périodique et noms de colloque inclus)
2016-09-01 - Article/Dans un journal avec peer-review - Anglais - 7 page(s)

Nouvellon C., Belchi C, Libralesso L, Douheret O, Lazzaroni Roberto , Snyders Rony , Thiry Damien , "WC/C:H films synthesized by an hybrid reactive magnetron sputtering/ Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition process: An alternative to Cr (VI) based hard chromium plating" in Thin Solid Films, 10.1016/j.tsf.2016.09.002

  • Edition : Elsevier (Switzerland)
  • Codes CREF : Chimie des surfaces et des interfaces (DI1327)
  • Unités de recherche UMONS : Chimie des matériaux nouveaux (S817), Chimie des interactions plasma-surface (S882)
  • Instituts UMONS : Institut de Recherche en Science et Ingénierie des Matériaux (Matériaux)
  • Centres UMONS : Centre d’Innovation et de Recherche en Matériaux Polymères (CIRMAP)
Texte intégral :

Identifiants :
  • DOI : 10.1016/j.tsf.2016.09.002