2010-06-30 - Colloque/Présentation - communication orale - Anglais -
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Snyders Rony 
,
Balhamri Adil,
Konstantinidis Stéphanos ,
Schneider J-M.,
Mràz S,
"Reactive magnetron sputtering... a versatile technology for TiO2 thin films" in HTPP 11 - High-Tech Plasma Processes, Bruxelles, Belgique, 2010
- Codes CREF : Chimie des surfaces et des interfaces (DI1327), Chimie des solides (DI1316), Physique des plasmas (DI1233)
- Unités de recherche UMONS : Chimie des interactions plasma-surface (S882)
- Instituts UMONS : Institut de Recherche en Science et Ingénierie des Matériaux (Matériaux)