DI-UMONS : Dépôt institutionnel de l’université de Mons

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(titres de publication, de périodique et noms de colloque inclus)
2006-10-01 - Article/Dans un journal avec peer-review - Anglais - page(s)

Van Overschelde Olivier , Wautelet Michel , "Diffraction-aided laser-induced microstructuring of thin TiO2 films on glass" in Applied Physics Letters, 89, Issue 16, 161114-3

  • Edition : American Institute of Physics, Melville (NY)
  • Codes CREF : Résistance des matériaux (DI2112), Physique de l'état solide (DI1261), Chimie des solides (DI1316), Physique des plasmas (DI1233)
  • Unités de recherche UMONS : Physique expérimentale et biologique (M104), Chimie des interactions plasma-surface (S882)
  • Instituts UMONS : Institut de Recherche en Science et Ingénierie des Matériaux (Matériaux)
Texte intégral :

Abstract(s) :

(Anglais) Thin films of TiO2 are deposited by magnetron sputtering on glass substrate and are irradiated by ultraviolet radiation using a KrF excimer laser. These thin films are patterned with a razor blade placed in the way of the radiation. When the fluence is in the 1250–1550 mJ/cm2 range, a regular structure appears, with controlled ablation of the films. It is shown that above a critical local fluence, the ablated depth varies linearly with the local fluence. The proportionality factor is shown to be equal to two photons per evaporated molecule.

Identifiants :
  • ISSN : 003-69-51
  • DOI : 10.1063/1.2364462